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相位移光罩

依據製程技術發展及需求, 相位移光罩(PSM) 可將現有的微影製程加強影像解析能力
澳门365娱乐体育娱乐官方目前可提供相位移光罩(Alternating Aperture PSM)提供量產

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晶圓級光罩

目前有許多加公司於先進封裝技術上已了解光罩於9”,14”應用效益。 9”,14”光罩可提供單次完整曝光於8” (200mm) / 12”(300mm)晶圓
這樣的益處對於加快製程速度及降低製程變異是有幫助的。
目前9”,14”光罩可應用於IC 封裝,Probe Cards,微機電製程使用